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          ICP光譜儀在光源方面的進步

          發表時間:2021-03-08  |  點擊率:632
            ICP光譜儀在光源方面的進步
            ICP光譜儀在不斷發展,這里主要介紹下其在光源方面的進步。
            1、高頻發生器的改進:由于ICP電子密度和激發溫度隨頻率的增加而減低,而光源的背景強度(Ar的連續光譜)則與頻率的平方成反比,隨頻率的提高要降低得多。因此,為了提高高頻發生器的穩定性,ICP光譜儀采用具有很高頻率穩定性和輸出功率穩定性的固態發生器,等離子體阻抗可自動調節補償,并由計算機控制工作參數、設定點火程序,可自動點火。因此,新型的商品儀器均已使用固態發生器,結合對樣品的引入系統而采取恒溫,提高進樣的穩定性,加上光學系統的恒溫,熱穩定性高,使儀器預熱時間大為縮短,大大提高了ICP光譜儀分析法的分析精度和準確度。
            2、采用端視技術以提高靈敏度: 近年來商品ICP光譜儀推出軸向ICP,有較高的靈敏度和較好的檢出限。ICP光譜儀中,ICP矩管通常是垂直放置,從側面觀察,稱為徑向ICP。端視ICP的檢出限通常要比側視提高幾倍至一個數量級。這是由于側視只觀測到ICP正常分析區的一部分,信號量較小且背景較高。端視可以觀測ICP光譜儀整個正常分析區的光發射信號,增加了可測的信號量,同時光譜背景較低,信背比高。因此,端視的檢出限顯著高于側視。端視ICP的主要缺點是線性范圍相對較小。而且分析基體復雜樣品時基體效應較明顯。這是由于在采用水平矩管端視ICP光譜儀時,等離子矩的尾焰溫度低,產生電子、離子復合,從而可能產生自吸和分子光譜所致。為此通常要采用壓縮空氣“切割”尾焰,或者采用“冷錐技術”(在ICP尾焰區放置一個類似ICP-MS的接口錐的金屬錐),可以有效地消除尾焰的干擾,以提視ICP的穩定性及減少端視ICP的基體干擾。
            ICP光譜儀的應用領域已得到迅速擴大,在光源方面不斷進步,具有很好的發展前景。
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